PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類(lèi)。真空蒸鍍在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱(chēng)膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。濺射鍍膜利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。離子鍍膜在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物蒸鍍在工件上。

具有摩擦系數較低，耐磨損，膜層應力小好等優(yōu)點(diǎn)。用途：潤滑涂層，成型模具，鋁合金等粘結性強材料沖壓模具。⑥ZrN：ZrN不含Ti和Cr的單成膜，有較高的耐熱性，涂層顏色艷麗，在加工鋁鈦合金時(shí)可有效減少切削瘤（積屑瘤）。⑦AL（L）:zui新劈裂電弧涂層，含Si納米復合涂層，極高抗熱性能，適合硬切削，納米硬度4300Hv，納米厚度1~3μm。摩擦系數0.3。zui高應用溫1200℃。加工硬度可達65HRC。用途：特適合加工淬火、鋼淬火硬鋼、不銹鋼、沉淀硬化不銹鋼。⑧MDT：zui新劈裂電弧涂層，納米厚度1-3μm，加工硬度可達58HRC。用途：特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金。

在熱鍍鋼鐵制件時(shí)，鋅液面在430℃下鍍層表面會(huì )出現羽毛狀花斑和細小難看的白斑，含錫、鉛的合金添加量一旦達到0.5%時(shí)，就會(huì )出現鋅花，xin灰明顯增多。

鉛和錫含量過(guò)高時(shí)在鍍鋅層冷卻過(guò)程中極易形成粗大的結晶和出現龜裂紋現象，影響鋅層的表面光滑度和耐腐蝕性能。

晶間腐蝕對雜質(zhì)鉛zui敏感，鉛量達到0.02%就會(huì )出現晶間腐蝕，在鍍層中沿晶界po裂而失去附著(zhù)力，甚至表面會(huì )出現黃豆粒大小的氣泡。在應用鋅鋁合金或多元合金時(shí)要了解鉛、錫、鋁的含量，決定是否在鋅液中添加。